等离子体化学气相沉积(PCVD)在电力的激发输入方式上有外部、内部感应耦合两种方式；从生产过程作分类的话，可分为批量式的、连续式以及半连续式等几类，本文分别做PCVD镀膜的类别介绍：

1、内部感应耦合方式

（1）半连续式

这种方式类似于离子镀膜、溅射镀膜等利用等离子体的工艺，它在PCVD装置内部通入大气时，器壁就会对水蒸气等杂质进行吸附，在等离子体作用之下，这些吸附杂质会沾污、解吸等离子体，导致产生对膜层质量较大的负面影响。所以PCVD真空设备更易受到污染，因此非常有必要使反应器处于较稳定高真空状态。

（2）批量式

反应器中以平行相对的方式布置尺寸为ø650mm的电极，用反应器外面的加热器加热基材至350ºC的高温，利用磁旋转装置进行旋转。基材与高频电极间约有50mm的距离，在基板中心有反应气体向四周流动，由基材下面的四个排气口排走废气。由50RHz的高频电源激发等离子体，以500W的功率维持放电。

2、外部感应耦合方式

（1）连续式

是由装料室、卸料室、沉积室等三个部分构成的PCVD连续性生产设备。其中，五个反应器组成沉积室，采用外部感应耦合方法进行等离子激发。自动化生产可通过对工艺过程的控制来实现。该类型设备的优点是，反应器有较集中的功率，使用Si气体浓度较低就能获得沉积速度较高，而且安全高。

（2）批量式

在石英管的外侧绕上高频线圈，接上供气系统抽气，系统就组成了反应器。高频线圈从外部把高频电力输给反应器中的气体，产生等离子体。

PCVD镀膜装置在制备非晶硅膜或SiN᙮膜中，薄膜的电学性能、内应力等性能很大程度上均取决于氢含量的多少，因此，在薄膜沉积过程当中需要注意避免装置被污染。

来源：振华真空设备